科技日報北京4月24日電 （實習記者張佳欣）來自奧地利格拉茨大學的研究人員近日開發(fā)了一種新的測量和成像方法，可在不需要任何染料或標簽的情況下解析小于光衍射極限的納米結構。這種激光掃描顯微鏡新方法彌補了傳統(tǒng)顯微鏡和超分辨率技術之間的差距，有朝一日或可被用來觀察復雜樣品的精細特征。
在國際光學出版集團的高影響力期刊《光學》上描述的這種新方法，是對激光掃描顯微鏡的改進，它使用強聚焦激光束照射標本。研究人員擴展了這項技術，不僅可以測量光與被研究標本相互作用后的亮度或強度，還可以檢測光場中編碼的其他參數(shù)。
“我們的方法可幫助擴展用于研究各種樣品中納米結構的顯微工具箱。”研究小組組長彼得·班澤說，“與基于類似掃描方法的超分辨率技術相比，我們的方法是完全非侵入性的，這意味著它不需要在成像前向標本中注入任何熒光分子。”
研究表明，新方法可測量金納米顆粒的位置和大小，精度為幾納米，即使在多個顆粒接觸的情況下也可做到。
在激光掃描顯微鏡中，光束在樣品上掃描，并測量來自樣品的透射光、反射光或散射光。大多數(shù)顯微方法測量來自樣品的光強度或亮度，但大量信息存儲在光的其他特性中，例如它的相位、偏振和散射角。為了捕捉這些額外信息，研究人員檢查了強度和偏振信息的空間分辨率。
研究人員表示，光的相位、偏振和強度，在空間上都會發(fā)生變化，這種變化方式包含了與之相互作用的樣品細節(jié)，然而，如果只在相互作用后測量總體光功率，那么大部分信息都會被忽略。
研究人員研究了含有不同大小的金屬納米顆粒的簡單樣品，通過掃描感興趣的區(qū)域，然后記錄傳輸光的偏振和角度分辨圖像展示了這種新方法。他們使用一種算法對測量數(shù)據(jù)進行評估，該算法創(chuàng)建了一個粒子模型，模型可自動調(diào)整，以盡可能精確地模擬測量數(shù)據(jù)。
班澤說，盡管這些顆粒及其距離比許多顯微鏡的分辨率極限要小得多，但新方法能夠解決這一問題。更重要的是，該算法能夠提供有關標本的其他參數(shù)，如顆粒的精確大小和位置。
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